石英玻璃管在很多領(lǐng)域都有一定的作用。

改進(jìn)的管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（Modified Chemical Vapour Deposition，簡稱MCVD）是1974年由美國AT&T公司貝爾實(shí)驗(yàn)室的Machesney等人開發(fā)的經(jīng)典工藝。MCVD工藝為朗訊等公司所采用的方法。MCVD工藝是一種以氫氧焰熱源，發(fā)生在高純度石英玻璃管內(nèi)進(jìn)行的氣相沉積。MCVD工藝的化學(xué)反應(yīng)機(jī)理為高溫氧化。MCVD工藝是由沉積和成棒兩個(gè)工藝步驟組成。沉積是獲得設(shè)計(jì)要求的光纖芯折射率分布，成棒是將已沉積好的空心高純石英玻璃管熔縮成一根實(shí)心的光纖預(yù)制棒芯棒?，F(xiàn)MCVD工藝采用大直徑合成石英玻璃管和外包技術(shù)，例如用火焰水解外包和等離子外包技術(shù)來制作大預(yù)制棒。這些外包技術(shù)彌補(bǔ)了傳統(tǒng)的MCVD工藝沉積速率低、幾何尺寸精度差的缺點(diǎn)，提高了質(zhì)量、降低了成本，增強(qiáng)了MCVD工藝的競爭力。

等離子體管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（Plasma Chemical Vapour Deposition，簡稱PCVD）是1975年由荷蘭飛利浦公司的Koenings提出的微波工藝。PCVD與MCVD的工藝相似之處是，它們都是在高純石英玻璃管內(nèi)進(jìn)行氣相沉積和高溫氧化反應(yīng)。所不同之處是熱源和反應(yīng)機(jī)理，PCVD工藝用的熱源是微波，其反應(yīng)機(jī)理為微波激活氣體產(chǎn)生等離子使反應(yīng)氣體電離，電離的反應(yīng)氣體呈帶電離子。帶電離子重新結(jié)合時(shí)釋放出的熱能熔化氣態(tài)反應(yīng)物形成透明的石英玻璃沉積薄層。PCVD工藝制備芯棒的工藝有兩個(gè)具體步驟，即沉積和成棒。沉積是借助低壓等離子使流進(jìn)高純石英玻璃沉積管內(nèi)氣態(tài)鹵化物和氧氣在大約1000℃的高溫下直接沉積成設(shè)計(jì)要求的光纖芯玻璃組成。成棒則是將沉積好的石英玻璃管移至成棒用的玻璃車床上，利用氫氧焰高溫作用將該管熔縮成實(shí)心的光纖預(yù)制棒芯棒。PCVD工藝的新發(fā)展是采用大直徑合成石英玻璃管為沉積襯底管，沉積速率提高到了2～3g/min，沉積長度達(dá)到1.2～1.5m。

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